时时彩官网网址

    收藏本站    |   联系我们    |  中文 /
     管式炉 当前位置:网站时时彩官网网址 > 产品展示

均温氧化扩散炉

发布时间:2020-08-26  浏览次数:287

 

设备简介:

均温氧化扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸

 

  

配置详情


 

设备特点:

1.温场均匀,恒温区长度及精度:300~1250mm  800~1200℃±1℃

2.具有强大的软件功能,NBD-101EP嵌入式操作系统,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;配有故障自诊断软件; 
3.程序可以实现手/自动工作,在停电或中途停机后,再次启动可以根据工艺手动升温,节省工艺时间; 
4.具有多种工艺管路,可供用户方便选择; 
5.冷端检测环境温度进行温度补偿,避免环境温度变化,对炉膛温度产生影响,避免层间干扰; 

6.可存储多组PID参数供系统运行调用功能,具有多点温度补偿
7.气体流量采用数字化精确控制,采用模拟信号闭环控制,强弱电分开,各种数据交互采用标准总线,提高抗干扰能力,保证数据安全;气体打开具有缓启动功能; 
8.具有多种报警功能及安全保护功能;
9.恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度; 
10.压力自动调整技术,将压力参数引入晶体硅氧化工艺,有效减小了尾部排风对工艺的干扰,减小由排风引起的工艺波动

可配工艺管外径

炉管外径152mm   适用于3";炉管外径252mm   适用于6";

炉管外径300mm   适用于8"

温度控制范围

300~1150 ℃

恒温区长度及精度

300~1250mm(依客户要求定)  300~800 ℃±1.5, 800~1100 ℃±1℃

可控升降温速率

升温速率:≦15/min  降温速率≦5/min

加热区个数

3区,4区,5区,6区(依客户要求定

送料方式

手动送料

冷却系统

水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排风冷≈25m3/min;

轴向温场分布

 

径向温场分布

 

控制系统

 

1.可预存15条工艺曲线,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦;

2.实验过程更加直观,操作更加便捷;

3.NBD-101EP嵌入式操作系统中英文互换图形界面,10寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,非线性式样温度修正;

4.具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能。

加热腔体

 


采用优质加热丝:KANTHAL及HRE

绝热材料:晶体纤维等

绝缘子:高纯刚玉间距依据温场调节

端口过渡环:氧化铝纤维真空成型。

温区:3段、4段、5段、6

 

真空密封系统

 

 

 

真空度:≤10Pa(机械泵)

供气系统

 

采用质子流量计控制气体流速,与设备集成为一体

可选配项目

1. 出料口排毒气柜;

2. 净化出料台;

3. 自动石英浆推拉舟机构

设备使用注意事项

1. 装取样片必须带石棉手套,使用石英器件小心打碎;

2. 选择合适的石英舟,取出清洁好的石英托板和石英拉钩;

3. 安装样片插入到石英舟的槽内,用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区;

4. 炉管内压力不得超过0.15MPa(绝对压力),以防止压力过大引起危险

5.高真空下使用时),设备使用温度不得超过1000℃

服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和时时彩官网网址等)

免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司客服人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,诺巴迪公司不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。


    相关产品